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產品詳情
簡單介紹：
多弧離子鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時將蒸發物或反應物沉積在基片上。本多弧離子鍍膜儀配有兩個多弧靶，和行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率。
詳情介紹：
多弧離子鍍膜儀 TN-MIOP500S-2TA本設備為多弧離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等優點。十分適合鍍硬質保護膜如TiN等。同時由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜
本設備配有兩個多弧靶，分置于腔體兩側。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率，改善成效果;該鍍膜儀還采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的安全。
| 名稱 |
多弧離子鍍膜儀 |
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型號 |
TN-MIOP500S-2TA |
| 特點 |
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| 技術參數 |
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| 規格 |
電壓 AC380V,50Hz ；尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm；功率 5kW 整機重量 350kg |
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